為鼓勵企業更廣泛運用知識產權、促進創新和改進,並推動香港的創意產業發展,政府建議對有關購買註冊商標,版權及註冊外觀設計而招致的資本開資提供利得稅扣減。就此,政府提出《2011年稅務(修訂)(第2號)條例草案》,並刊登憲報,在稅務條例中新增三個條例: 16EA, 16EB和16EC。 跟據現時條例,利得稅扣減只局限兩類知識產權為專利權和任何工業知識權利。納稅人可在購買知識產權之課稅年度中作出百分百的利得稅扣減。有關該新增三個條例之概要如下:
擬議新訂的16EA條例
在此條例下,有關購買知識產權註冊商標,版權及註冊外觀設計的資本開資(包括就購買屬該款所提述類別的權利而招致的法律開支及估價費用)可容許在用於產生應課稅的利潤中扣減。而所購買商標及外觀設計之註冊地均可在香港或海外。
有關購買知識產權開支之扣稅是以直線法計算,由購買之課稅年度開始,連續五個課稅年度按年扣除 (如有關知識產權之最長保護限期為五年或少於五年,則按其保護限期以直線法計算按年扣除) 。
若有關知識產權有部分用以產生應課稅利潤,則有關知識產權的可扣除開支只限於其用以產生該等應課稅利潤的相關部分。
如有關知識產權是以一個代價予以合併購買或出售,或是與任何其他資產以一個代價合併購買或出售,局長可在顧及該宗交易的整體情況下,為各個別資產分配一個買賣價,予以作為利得稅扣減或納稅調整。
如局長認為,購買或售賣有關知識產權的代價,並不反映該項權利在該項購買或售賣作出之時的真正市值,則局長可釐定其真正市值,予以作為利得稅扣減或納稅調整。
擬議新訂的16EB條例
在此條例下,知識產權容許任何人獲得扣除,而該人其後售出該項知識產權,相關售賣得益款項需與其剩餘未扣減的開支作比較。
如有關售賣得益超過該未獲容許扣除額款額,該超出的款額被視為須就該項知識產權被售出時的評稅基期所屬的課稅年度之收入。該課稅收入金額則不超出在已往的課稅年度已扣除的款額部分。另一方面,如未獲容許扣除額超過有關售賣得益,則超出的款額,須就該項知識產權被售出時的評稅基期所屬的課稅年度而扣除。
若所出售之知識產權有部分用以產生應課稅利潤,在計算上述課稅收入或課稅扣減時,只限於其用以產生該等應課稅利潤的相關部分。
如該項知識產權是在該行業、專業或業務永久停業的日期或之後被售出的,則被視為在緊接上述停業之前出售,予以作為利得稅扣減或納稅調整。
擬議新訂的16EC條例
在此條例下,主要提及相關的反避稅條文。不獲扣稅情況如下:
(1) 如該項知識產權是全部或局部向相聯者購買;
(2) 如該項知識產權是在"售後租回"安排下向相聯者購買;
(3) 如該特許使用人, 即非該納稅人(不論是相聯者與否) ,在特許合同有效期間(不存在"售後租回"安排),在香港以外某地方使用該項知識產權;
(4) 如購買該項知識產權的全部或主要部分代價,是直接或間接以一項無追索權債項提供資金的;
(5) 如該特許使用人在條例生效日期前已在特許下使用該項知識產權,在特許到期前將其終止,並以不合理的代價購入。
《2011年稅務(修訂)(第2號)條例草案》尚未制定為法例。具有效力的過渡性條文已列明以上條例並不適用於2011 年4 月1 日開始的課稅年度前的任何課稅年度。
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